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CVD设备
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混合气体化学气相沉积CVD系统

TAG: CVD设备 cvd系统 1200度电炉 PECVD系统 PECVD设备


产品型号:S-1200S-CVD

简要描述:

混合气体化学气相沉积CVD系统由高温管式炉,真空压强控制系统,多通道高精度数字质量流量控制系统,过压保护及冷凝等部分组成,可实现真空达0.1mbar混合气体化学气相沉积和扩散试验。

详细介绍
功能特点:
由高温管式炉,真空压强控制系统,多通道高精度数字质量流量控制系统,过压保护及冷凝等部分组成,可实现真空达0.1mbar混合气体化学气相沉积和扩散试验。
产品用途:
适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用
产品参数
  • 机器电源:AC220V,50/60Hz;
  • 额定功率4kw
  • 炉管:高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数极小,能承受骤冷骤热的温度变化;
  • 炉管尺寸:Φ80*/1000mm
  • 加热元件:0Cr27Al7Mo2
  • 加热区长度:400mm(可定制)
  • 恒温区长度:200mm(可定制)
  • 工作温度:≤1150℃
  • 升温速率:≤10℃/min
  • 温控系统:温度控制采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能、30段升降温程序
  • 测温元件:N型热电偶
  • 恒温精度:±1℃
  • 保护及提醒:超温、断偶故障警报及断电保护、高精度质量流量计通过数据接口连接电脑,配置软件实时人机交互界面
  • 混气系统:四通道质量流量控制,可同时通入四种不同气体、内置不锈钢混气箱,每路气体管路均配有逆止阀、每路气体进气管路配有不锈钢针阀
  • 流量规格:0~30SLM
  • 控制精度:±1.0%F.S
  • 极限真空:6.0×10-5Pa
  • 工作真空:7.6×10-4Pa
  • 冷凝系统:采用低温恒温槽,最低温度可达-20℃、内置不锈钢真空冷凝灌,采用KF接头,清理收集方便、槽内冷液可外引,冷却机外实验容器,也可在槽内直接进行低温、恒温实验

 


售后保障

  • 我公司对所供设备提供质保十二个月保修服务(易损件除外),人为造成损坏不属于质保范围,保修期满后,仍提供终身维修服务
  • 在设备使用过程中如遇设备故障的,用户可通过电话、书面、传真、电子邮件或其它方式通知维修需要,我公司将尽快做出处理方案,确保设备正常运行。
  • 我公司提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训。确保用户对产品能熟练的进行规范、安全操作,能够对一般故障能进行处理和设备的日常维护及保养,保证设备正常使用。
  • 我公司技术人员可提供上门服务(产品安装调试、整机维护、技术讲解及操作指导等)。我公司技术顾问可随时解答客户在技术及标准规范方面的疑问及进行技术指导。
  • 本公司可提供运输服务,包装方式均按照标准安全包装进行。随机技术资料齐全(用户手册、保修手册、有关资料及配件、随机工具等)
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