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化学气相沉积系统PECVD
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开启式管式炉PECVD系统

TAG: PECVD系统 PECVD设备


产品型号:S-1200K-CVD

简要描述:

开启式管式炉PECVD系统由高温管式炉,真空压强控制系统,多通道高精度数字质量流量控制系统,过压保护及冷凝等部分组成,可实现真空达0.1mbar混合气体化学气相沉积和扩散试验。

详细介绍
功能特点:
在真空压力下,加在电感线圈的射频电场,使反应室气体发生辉光放电,在辉光发电区域产生大量的电子。这些电子在电场的作用下获得充足的能量,其本身温度很高,它与气体分子相碰撞,使气体分子活化。它们吸附在衬底上,并发生化学反应生成介质膜,副产物从衬底上解吸,随主气流由真空泵抽走,称为等离子体增强化学气相沉(PECVD)
产品用途:
PECVD开启式管式炉系统由开启式管式炉、高真空分子泵系统、射频电源系统及多通道高精度数字质量流量控制系统组成,是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择。
适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用
产品参数
  • 控温方式:采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制30段升降温程序。
  • 加热元件:0Cr27Al7Mo2
  • 工作电源:AC220V 50Hz/60Hz
  • 额定功率:4kw
  • 炉管材质:高纯石英管
  • 炉管尺寸:Φ60/Φ80*1200mm
  • 工作温度:≤1150℃(可定制)
  • 最高温度:1200℃(可定制)
  • 恒温精度:±1℃
  • 恒温区:200mm(可定制)
  • 升温速度:≤10℃/min
  • 密封方式:不锈钢快速法兰挤压密封
  • 极限真空:6.0×10-5Pa
  • 工作真空:7.6×10-4Pa
  • 产品配置:双级旋片真空泵+分子泵
  • 测量方式:复合真空计
  • 真空规管:电阻规+电离规
  • 冷却方式:风冷
  • 抽速:110L/S
  • 射频电源系统
  • 射频功率输出范围:5~500W
  • 射频频率:13.56MHz±0.005%
  • 噪声:≤55DB
  • 冷却方式:风冷
  • 功率温定度:± 0.1%
  • 混气系统流量规格:0-200sccm (可根据客户需要配置)
  • 线性:±1.5%F.S
  • 准确度:±1.5%F.S
  • 重复精度:±0.2%F.S.
  • 响应时间:≤8sec
  • 耐压:3MPa
  • 气路通道:4通道(根据客户需求)
  • 针阀:316不锈钢
  • 管道:Φ6mm不锈钢管
  • 接口:SwagelokΦ6mm

 


售后保障

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  • 在设备使用过程中如遇设备故障的,用户可通过电话、书面、传真、电子邮件或其它方式通知维修需要,我公司将尽快做出处理方案,确保设备正常运行。
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  • 我公司技术人员可提供上门服务(产品安装调试、整机维护、技术讲解及操作指导等)。我公司技术顾问可随时解答客户在技术及标准规范方面的疑问及进行技术指导。
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