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化学气相沉积系统PECVD
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实验室滑轨炉PECVD系统设备

TAG: PECVD系统 PECVD设备 实验室电炉


产品型号:S-1200H-CVD

简要描述:

实验室滑轨炉PECVD系统设备通过滑动炉体来实现快速的升降温,配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。

详细介绍
功能特点:
本套PECVD系统通过滑动炉体来实现快速的升降温,配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择
产品用途:
高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。
产品参数
  • 炉体结构:双层炉壳间配有风冷系统,有效保证外壳表面温;
  • 炉子底部装有一对滑轨,移动平稳
  • 炉子可以手动从一端滑向另一端,实现快速的加热和冷却
  • 炉盖可开启,可以实时观察加热的物料
  • 电源电压:AC220V 50/60Hz;
  • 功率:4KW
  • 炉管材质:高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数极小
  • 炉管尺寸:Φ60*1250mm(可定制)
  • 加热系统:加热元件采用优质合金丝0Cr27Al7Mo2,表面负荷高、经久耐用
  • 加热区长度:400mm(可定制)
  • 恒温区长度:200mm(可定制)
  • 工作温度:≤1150℃(可定制)
  • 最高温度:1200℃(可定制)
  • 升温速率:10℃/min
  • 极限真空:6.0×10-5Pa
  • 工作真空:7.6×10-4Pa
  • 温控系统:温度控制采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能、30段升降温程序
  • 测温元件:N型热电偶
  • 恒温精度:±1℃
  • 混气系统:四路质量流量计:数字显示、气体流量自动控制、内置不锈钢混气箱,每路气体管路均配有逆止阀、管路采用不锈钢管,接口为Φ6卡套、每路气体进气管路配有不锈钢针阀、通过控制面板上的旋钮来调节气体流量
  • 流量规格:0~200sccm
  • 流量精度:±1.5%
  • 高真空真空系统:采用双级旋片真空泵+分子泵,极限真空可达4.0*10^-4Pa
  • 复合真空计,配置电阻规+电离规
  • 抽速:110L/S
  • 冷却:风冷
  • 射频电源系统输出功率:0-300W
  • 功率稳定度:±0.1%
  • 射频电源频率:13.56MHz 稳定性±0.005%
  • 最大反向功率:120W
  • 射频电源电子输出端口:UHF
  • 冷却:风冷
  • 电源:AC187-253V 50/60Hz
  • 可选配件:混气系统,中、高真空系统,各种刚玉、石英坩埚,石英管,计算机控制软件,无纸记录仪,氧含量分析仪。

 


售后保障

  • 我公司对所供设备提供质保十二个月保修服务(易损件除外),人为造成损坏不属于质保范围,保修期满后,仍提供终身维修服务
  • 在设备使用过程中如遇设备故障的,用户可通过电话、书面、传真、电子邮件或其它方式通知维修需要,我公司将尽快做出处理方案,确保设备正常运行。
  • 我公司提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训。确保用户对产品能熟练的进行规范、安全操作,能够对一般故障能进行处理和设备的日常维护及保养,保证设备正常使用。
  • 我公司技术人员可提供上门服务(产品安装调试、整机维护、技术讲解及操作指导等)。我公司技术顾问可随时解答客户在技术及标准规范方面的疑问及进行技术指导。
  • 本公司可提供运输服务,包装方式均按照标准安全包装进行。随机技术资料齐全(用户手册、保修手册、有关资料及配件、随机工具等)
  • 本公司所有产品均有质量认证证书。
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